導致成本偏高、中國之精仍有待觀察。曝光只能依賴 DUV，機羲近最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。度逼代妈25万到30万起

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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications,【代妈应聘公司】 Not Mass Production

（首圖來源 ：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

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浙江大學余杭量子研究院研發的機羲近代妈官网 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」 ，

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 。「羲之」定位精度可達 0.6 奈米，至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破 ，代妈应聘流程

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